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什么是LPCVD?

日期:2024-08-22 03:21
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摘要:
LPCVD--Low Pressure Chemical Vapor Deposition 低压力化学气相沉积法用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉积,过程在管炉中执行,要求也相当高的温度。
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